众所周知，在现代科技领域里，半导体芯片无疑是十分重要的，作为处理信息的中枢，半导体芯片就相当于是人的大脑一样，在整个科技领域发挥着不可替代的作用；中国作为全球有名的制造业大国，同时又是全球有名的科技大国，我国每年对芯片的消耗量都是巨大的，但由于我们在半导体芯片领域的发展起步较晚，基础较为薄弱；所以一直以来国产半导体芯片产业的发展都落后于西方，而国内科技企业生产所需的芯片也几乎都是依赖于从高通、英特尔等国外市场上进口而来。
严重的依赖国外进口的芯片，也让国产科技企业的发展很容易被人卡脖子，像这一次我国华为公司被打压，就直接给我们敲响了发展的警钟，在芯片禁令的影响下，国内芯片市场的发展明显受到了很大的冲击，所以不少人都唱衰国产芯片的发展，但中国芯片的发展真的有这么弱吗？显然并不是，中国最近这几年在半导体芯片市场上正在快速的发展，并大有崛起之势！
我们要知道，芯片禁令之所以会影响到中国芯片市场的发展，主要是因为我们在芯片生产市场上比较落后，因为国内缺乏先进的光刻机，所以我们始终无法生产出先进的半导体芯片来；因此光刻机也就成为了我们急需要突破的一项卡脖子技术，在国内市场上，中科院、上海微单子、清华大学等机构都已经开始对光刻机进行了研发，其中上海微电子自主研发的28nm光刻机已经落地，而且现在还通过了各项检测，预计在年底前就能交付使用！
除了光刻机以外，在蚀刻机领域里，我国也取得了一定的突破；中微公司在3nm蚀刻机领域的研发已经取得了巨大的突破，而且中微公司所研发的5nm蚀刻机已经获得了台积电和三星这些芯片生产巨头的青睐，并被大量的应用在5nm芯片生产领域，有了光刻机和蚀刻机的突破，可以说国内想要突破5nm和3nm先进工艺芯片的生产难题也就不再那么遥不可及了！
值得一提的是，随着“中国芯”的不断突破，在芯片生产所需的原材料上我们也迎来了突破；芯片的生产需要晶圆和光刻胶，其中光刻胶的质量将直接决定芯片光刻的精度，所以光刻胶也就成为了芯片生产最为核心的原材料之一，而在高端光刻胶领域里，一直都被美国和日本科技企业所垄断，所以国内的科研团队也一直都在不断地想办法攻克光刻胶的难题，据悉，国内位于山东滨州的光刻胶研发基地已经成功研发出用于高端芯片生产的光刻胶，这也就意味着我们离7nm5nm先进工艺芯片又近了一步！
如今来看，在芯片禁令的影响下，也直接加快了“中国芯”的发展，可以说这无疑也是搬起石头砸自己的脚的做法；目前国产科技企业在芯片的研发生产等领域都已经有了突破，像光刻机、蚀刻机、光刻胶等领域我们都取得了巨大的突破，而且还都是在7nm工艺以下的领域，所以我们想要突破先进工艺芯片的生产也将只是时间的问题，等到我们打造出完全属于我们自己的半导体芯片产业链以后，芯片禁令也将成为笑话！不知道对此你是怎么看的呢？
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